スパッタリングターゲットについて

スパッタリングターゲットは物理蒸着薄膜コーティングに必要な原料です。スパッタリング蒸着またはスパッタコーティングは、PVD 技術の 1 つです。コーティングプロセス中、高エネルギー粒子によるターゲットの衝撃により、スパッタリングターゲット粒子が固体スパッタリング材料から放出されます。これは、さまざまな表面に金属またはその他の材料の薄膜を堆積する電子プロセスです。

KOBOは、純金属スパッタリングターゲットおよび合金スパッタリングターゲットの上級メーカーとして、あらゆる形態の金属スパッタリングターゲットの製造に長年豊富な経験を持っています。

金属ターゲット

金属スパッタリングターゲットは通常、高純度の金属で作られており、他のスパッタ成膜技術の基本的なコーティング材料として広く使用されています。当社は、お客様の特定の要件に合わせて、最低純度 99.95% から最高 99.99% まで、さまざまな純度レベルの金属ターゲットを提供しています。

モリブデンスパッタリングターゲット、Mo

モリブデン金属は銀白色で非常に硬いです。その融点は 2623 度 (4753 度 F) で、天然元素の中でタンタル、オスミウム、レニウム、タングステンよりも低いだけです。また、商業的に使用されている金属の中で熱膨張係数が最も低い金属の 1 つです。

モリブデンターゲットは、高エネルギーX線の生成に使用される材料です。 X線発生の原理は、高エネルギーの電子がタングステンやモリブデンなどの金属ターゲットに衝突すると、原子内の電子が強く励起され、X線が発生するというものです。モリブデンターゲット材料は主にモリブデン金属またはモリブデン合金でできており、高融点、高密度、高強度、良好な熱伝導率という利点があります。

モリブデンターゲットは、医療分野、材料科学、化学、物理学などの分野で重要な役割を果たす重要な電子材料です。モリブデンターゲットの基本原理と応用分野を理解することで、さまざまな分野での実用化をより深く理解し、科学研究や工業生産におけるその促進と応用を促進することができます。

1. 医療分野

モリブデンターゲットは主にX線発生装置、CT装置、核磁気共鳴画像装置などの医療分野で使用されています。

2. 材料科学、化学、物理学の分野

モリブデンターゲットは、半導体結晶の成長、化学気相成長 (CVD) 膜の調製、微細構造材料の分析など、材料科学、化学、物理学でも広く使用されています。モリブデンターゲットは、エネルギーが高く半減期が長いため、これらの分野で広く使用されています。

材料の種類	モリブデン
シンボル	モー
色・外観	グレー、メタリック
融点	2,617度
密度	10.2g/CCの
燻る	直流
債券の種類	インジウム、エラストマー